化學(xué)氣相沉積(CVD)工藝專用AR氬氣探測器：

在半導(dǎo)體 CVD 工藝中，氬氣作為保護(hù)氣(隔絕空氣防薄膜氧化)與載氣(輸送反應(yīng)氣體)，其純度直接決定薄膜沉積質(zhì)量 —— 即使 ppb 級(10??)的雜質(zhì)(如氧氣、水分)也可能導(dǎo)致晶圓出現(xiàn)針孔、組分偏差等缺陷。深國安自主研發(fā)一款化學(xué)氣相沉積(CVD)工藝專用AR氬氣探測器，產(chǎn)品以 “ppb級分辨率” 為核心，專為 3nm-90nm先進(jìn)制程設(shè)計(jì)，精準(zhǔn)捕捉氬氣中微量雜質(zhì)，為 CVD 工藝純度管控與安全生產(chǎn)提供可靠監(jiān)測。

化學(xué)氣相沉積(CVD)工藝專用AR氬氣探測器采用進(jìn)口熱傳導(dǎo)傳感技術(shù)，針對氬氣中氧氣、水分等關(guān)鍵雜質(zhì)的特征吸收波長(如氧氣 1450nm、水分 1390nm)進(jìn)行精準(zhǔn)檢測，雜質(zhì)檢出限低至 0.1ppb，分辨率達(dá) 0.01ppb，較傳統(tǒng)熱導(dǎo)式檢測儀靈敏度提升 100 倍。檢測量程覆蓋0-100PPM、10%VOL、50%VOL、100%VOL等，誤差≤±3% FS，響應(yīng)時(shí)間≤10秒，可實(shí)時(shí)捕捉氬氣鋼瓶切換、管道泄漏等場景的純度波動(dòng)。

化學(xué)氣相沉積(CVD)工藝專用AR氬氣探測器采用316L不銹鋼外殼(符合 Class 5 潔凈標(biāo)準(zhǔn))與 PTFE 防腐涂層，耐受 CVD 工藝 80℃高溫、95% 高濕及硅烷、氨氣等腐蝕性氣體;內(nèi)置溫濕度補(bǔ)償算法，在 - 40℃~70℃區(qū)間數(shù)據(jù)漂移≤±0.5ppb/24h，徹底解決傳統(tǒng)設(shè)備環(huán)境干擾問題。支持 4-20mA/RS485 信號輸出，可與 CVD 腔體 PLC 系統(tǒng)聯(lián)動(dòng) —— 當(dāng)雜質(zhì)濃度超 5ppb 時(shí)，自動(dòng)切換備用氬氣鋼瓶并啟動(dòng)純化裝置;超 10ppb 時(shí)觸發(fā)工藝暫停，避免缺陷晶圓產(chǎn)生。

化學(xué)氣相沉積(CVD)工藝專用AR氬氣探測器配備SGA-IoT 物聯(lián)網(wǎng)平臺(tái)，支持 1000 臺(tái)設(shè)備同時(shí)聯(lián)網(wǎng)，實(shí)時(shí)顯示純度曲線與雜質(zhì)趨勢，內(nèi)置 AI 故障預(yù)測模塊可提前 72 小時(shí)預(yù)警傳感器失效。目前該檢測儀已通過 SGS 潔凈室兼容性測試，在多家半導(dǎo)體企業(yè)12 英寸 CVD 產(chǎn)線應(yīng)用中，將薄膜良率提升 2.5%，雜質(zhì)異常處置時(shí)間縮短至 30 秒，為先進(jìn)制程 CVD 工藝的氬氣純度管控提供專業(yè)解決方案。